三氟化氮等特種電子氣體高速發(fā)展

近年來(lái)，《中國(guó)制造2025》、《“十三五”國(guó)家戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)劃》、《關(guān)于集成電路生產(chǎn)企業(yè)有關(guān)企業(yè)所得稅政策問(wèn)題的通知》等政策扶持，我國(guó)超大規(guī)模集成電路、液晶顯示器件、非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池等產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展。同時(shí)，含氟特種電子氣體伴隨這些行業(yè)的高速發(fā)展增長(zhǎng)亦十分可觀。

常用的含氟特種電子氣體有六氟化硫(sf6)、六氟化鎢(WF6)、四氟化碳(CF4)、三氟甲烷(CHF3)、三氟化氮(NF3)、六氟乙烷(C2F6)和八氟丙烷(C3F8)等。

三氟化氮（NF3）作為含氟特種氣體的一類(lèi)，是市場(chǎng)容量最大的電子特種氣體產(chǎn)品，其常溫下具有化學(xué)惰性，高溫下則比氧氣更活潑、比氟更穩(wěn)定，且易于處理。

三氟化氮主要用作等離子蝕刻氣體和反應(yīng)腔清洗劑，適用于半導(dǎo)體芯片、平板顯示器、光纖、光伏電池等制造領(lǐng)域。

和其他含氟電子氣體相比，三氟化氮具有反應(yīng)快、效率高的優(yōu)點(diǎn)，尤其在對(duì)氮化硅等含硅材質(zhì)的蝕刻中，具有較高的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時(shí)也是非常良好的清洗劑，而且對(duì)表面無(wú)污染，能夠滿(mǎn)足加工過(guò)程需求。

氟化氮的主要生產(chǎn)工藝有化學(xué)法和熔鹽電解法。其中化學(xué)合成法安全性高，但具有設(shè)備復(fù)雜、雜質(zhì)含量多的缺點(diǎn)；電解法更容易得到高純度產(chǎn)品，但存在一定的浪費(fèi)和污染。

目前，日本與國(guó)內(nèi)生產(chǎn)高純?nèi)膹S家大多采用NH4H氟氣熔融鹽電解法，而歐美國(guó)家則一般采用直接化合法。

隨著半導(dǎo)體、顯示面板行業(yè)生產(chǎn)及消費(fèi)重心逐漸向中國(guó)大陸轉(zhuǎn)移，加上主要原料均由國(guó)內(nèi)供給，兩頭在內(nèi)的產(chǎn)業(yè)鏈格局決定了三氟化氮生產(chǎn)應(yīng)用向國(guó)內(nèi)轉(zhuǎn)移是大勢(shì)所趨。

我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)和面板產(chǎn)業(yè)維持較高的景氣度，三氟化氮作為面板、半導(dǎo)體生產(chǎn)加工過(guò)程中必不可少、且用量最大的特種電子氣體，具有廣闊的市場(chǎng)空間。

根據(jù)數(shù)據(jù)顯示，2019年全球和中國(guó)的三氟化氮需求量分別為3.1和1.1萬(wàn)噸，分別同比增長(zhǎng)10%和40%。從市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)格局來(lái)看，長(zhǎng)期以來(lái)，三氟化氮的生產(chǎn)和銷(xiāo)售廠家集中在美國(guó)、韓國(guó)、日本等國(guó)外幾家氣體公司。其優(yōu)勢(shì)為產(chǎn)能大、品種齊全，劣勢(shì)在于原材料均由中國(guó)國(guó)內(nèi)采購(gòu)，生產(chǎn)成本和運(yùn)輸成本比較高。

由于生產(chǎn)NF3氣體的主要原料大部由國(guó)內(nèi)供給，且半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)和消費(fèi)中心向中國(guó)大陸轉(zhuǎn)移，決定了NF3未來(lái)生產(chǎn)向中國(guó)大陸轉(zhuǎn)移的趨勢(shì)。隨著國(guó)內(nèi)市場(chǎng)需求的增加和國(guó)產(chǎn)化率的提升，頭部企業(yè)的市占率有望得到進(jìn)一步提升。